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蔡司Sigma 300 場發射掃描電鏡

發表時間 :2020-06-01 作者 :博雅德州

蔡司Sigma 300 場發射掃描電鏡.jpg

產品描述

蔡司公司最新推出Sigma300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學係統設計,將低電壓成像技術發揮到了極致,采用適宜的探針電流範圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,多種探測器可選:用於顆粒、表麵或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節省了設置與分析操作的時間,提高效率。

產品應用

掃描電鏡(SEM)廣泛地應用於金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分   析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素麵掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶 粒取向測量。

技術參數

  • 分辨率:1.0nm@30kV STEM 、1.0nm @15 kV  、1.8nm @1kV

  • 放大倍數:10-1,000,000×

  • 加速電壓:調整範圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現)

  • 探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩定性優於 0.2%/h

  • 低真空範圍: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

  • 樣品室: 365 mm(φ),275mm(h)

  • 樣品台:5軸優中心全自動    X=125mm  Y=125 mm  Z=50 mm  T=-10o-90o  R=360o 連續

  • 係統控製:基於Windows 7的SmartSEM操作係統,可選鼠標、鍵盤、控製麵板控製

  • 存儲分辨率:32k x 24k pixels

 


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